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 项目 
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 技术指标 
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 仪器型号 
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 EX2 
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 测量方式 
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 自动测量 
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 样品放置方式 
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 水平放置 
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 光源 
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 He-Ne激光器,波长632.8nm 
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 膜厚测量重复性* 
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 0.5nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层) 
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 膜厚范围 
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 透明薄膜:1-4000nm 
吸收薄膜则与材料性质相关 
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 折射率范围 
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 1.3 – 10 
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 探测光束直径 
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 Φ2-3mm 
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 入射角度 
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 30°-90°,精度0.05° 
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 偏振器方位角读数范围 
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 0-360° 
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 偏振器步进角 
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 0.014° 
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 样品方位调整 
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 Z轴高度调节:16mm 
二维俯仰调节:±4° 
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 允许样品尺寸 
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 样品直径可达Φ160mm 
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 配套软件 
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 * 用户权限设置 
* 多种测量模式选择 
* 多个测量项目选择 
* 方便的数据分析、计算、输入输出 
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 大外形尺寸 
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 约400*400*250mm 
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 仪器重量(净重) 
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 约20Kg 
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 选配件 
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 * 半导体激光器 
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